真空爐是一種用于高溫處理材料的設備，其特點是在高溫下，將材料置于真空環(huán)境中進行處理。真空爐通常由爐體、加熱元件、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)等部分組成。爐體通常由高溫合金材料制成，能夠承受高溫和真空環(huán)境的腐蝕。加熱元件通常采用電阻絲或電磁感應加熱，能夠提供高溫的加熱環(huán)境。
選購真空爐要注意的事項
1、選擇真空爐首先要根據(jù)自己產(chǎn)品的化學成分和所需要的最高的加熱溫度，在極限真空度方面必須滿足金屬氧化物與碳化物平衡分解壓的關(guān)系并且要設置一定的余量，不要只是一味的追求高的真空度，真空度過高不僅會造成合金元素的揮發(fā)還會造成設備的配置提高以致于投資費用增加。
2、其次要根據(jù)熱處理材料所需的冷卻形式。真空爐的冷卻方式有油冷和氣冷。目前主要為氣冷，氣冷對熱處理零件基本沒有任何污染和不良影響，處理后零件表面潔凈不需要清洗。油冷表面有微滲碳問題，對質(zhì)量有一定的影響，所以在滿足冷卻速度的條件下一般選氣冷淬火。氣冷的冷卻速度主要受氣壓、流速與氣流的形式和分布等因素的影響，在進行選擇時要全面考慮。一般情況氣壓高、流速大、冷卻速度快。另外氣冷時換熱器冷卻水的流量大小對于實際冷卻有明顯的影響。不過有的材料卻只能用油冷的方式進行淬火，在氣冷的情況下無法達到其熱處理的工藝水平。所以在選擇冷卻形式的時候更要根據(jù)材料的類型進行選擇。
3、加熱元件的選擇。真空爐加熱元件的形式和材料有一定的不同，一般以板式和棒式為主，材料為高強度石墨。但是近年來碳碳復合材料的出現(xiàn)以其較大的技術(shù)優(yōu)勢有取代石墨的趨勢。同樣功率的情況下碳碳復合材料厚度薄相對蓄熱小有利于提高冷卻速度。但是有的材料在高溫下會和C進行反應，會改變其本質(zhì)，因此這種情況下就無法選擇以C為主材料的加熱元件，而應選擇不銹鋼或者鉬等金屬材料作為加熱元件。
4、功能。購買真空爐還要考慮工藝的通用性，即淬火回火使用溫度范圍要寬。特別是處理高合金鋼，回火溫度較高并且淬火后不出爐直接進行回火十分方便。
5、控制系統(tǒng)。控制系統(tǒng)是真空爐的核心部分，要確保其可靠性和完善性。最好有監(jiān)控、故障顯示、記錄等功能。
6、其它密封性和真空系統(tǒng)配置的可靠性也是重要環(huán)節(jié)。設備造型時不可僅僅從形式力求繁雜，一定要在對比的基礎(chǔ)上力求可靠。
